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半导体电子设备

湿法腐蚀清洗系统

发布时间:2020-10-05 作者:鲁超超声 点击:111次

湿法腐蚀清洗系统(图1)

 

 

主要特点:

成熟的模块化工艺组合

可面向用户工艺需要,定制化设计

已应用于20nm级别IC工艺线

针对LED生产线,提高整体解决方案

全自动清洗/手动清洗可选

整机防漏液设计

广泛应用于Ic、MEMS、LED、PV、电力电子、半导体材料等行业

标准配置:

高纯进口板材

高结晶工艺管道

高洁净气动阀门

防腐机械手

伺服电机驱动

人机对话界面,触摸屏操作

标准工艺模块

SC-I溶液腐蚀槽

SC-II溶液腐蚀槽

SC-III溶液腐蚀槽

QDR槽

循环清洗槽

超声/兆声清洗槽

可选模块:

鼓氮

水溶超声/水浴兆声槽

槽内加热/制冷循环

漏液检测

水阻检测

自动供液系统

自动配液系统

自动灭火系统(有机清洗)

ESD功能(有机清洗)

MES接口(可选)

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